著者
越後谷 淳一 菊池 弘昭 鎌田 康寛 小林 悟 村上 武
出版者
岩手大学
雑誌
基盤研究(B)
巻号頁・発行日
2008

中性子照射材・模擬材について,動的磁気特性を計測し,ナノ欠陥と磁壁挙動との関係について考察を行うとともに,照射析出による溶質元素の濃度変化評価を目的としたモデル化と定量的解析を行った.また,ローレンツ電子顕微鏡や磁気光学カー効果顕微鏡により,照射モデル材・シミュレーション照射材の格子欠陥と磁壁とのミクロレベルでの相互作用挙動を調べ,欠陥と磁壁とのダイナミックスを解明するとともに,マクロ領域における照射損傷組織と磁壁との相互作用について検討した.

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こんな研究ありました:照射ナノ損傷組織と磁壁とのダイナミックス研究(越後谷 淳一) http://kaken.nii.ac.jp/ja/p/20360416
こんな研究ありました:照射ナノ損傷組織と磁壁とのダイナミックス研究(越後谷 淳一) http://kaken.nii.ac.jp/ja/p/20360416

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