著者

カチョーンルンルアン パナート 木村 景一 BABU Suryadevara V. 鈴木 恵友

出版者

九州工業大学

雑誌

若手研究(B)

巻号頁・発行日

2013-04-01

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ポリシング加工現象を解析するため,被ポリシング面(被加工領域)にエバネッセント光(近接場光)を発生させ,被加工領域に侵入するナノ微粒子の挙動観察を行なった.独自に開発したポリシング機に搭載できるポリシング現象可視化装置により,ポリシングの現象を再現し,SiO2基板で粒径15~100nm(4H-SiC基板では粒径50nmのシリカ)の粒子の挙動を動的に毎秒100フレームで観察することに成功した.