著者

寺山 裕 草津 航平 森田 倫太朗 カチョーンルンルアン パナート 和田 雄高 濵田 聡美 檜山 浩國

出版者

公益社団法人 精密工学会

雑誌

精密工学会学術講演会講演論文集

巻号頁・発行日

vol.2019, pp.138-139, 2019

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<p>半導体製造ではウェハ上に残留する直径100 nm以下の研磨ナノ粒子は重大な製造欠陥を引き起こすため,研磨後の表面洗浄は必要不可欠である.未だ解明されていないブラシスクラブ洗浄時表面近傍で発生するナノ粒子の付着・離脱挙動現象を,基板表面のみに局在するエバネッセント光で動的に観察した.本稿ではPVAブラシと異なった波長で蛍光するナノシリカ粒子を用いてブラシと粒子を色識別し,洗浄現象の可視化を行ったので報告する.</p>

著者

ド バン タン カチョーンルンルアン パナート 鈴木 恵友

出版者

公益社団法人 精密工学会

雑誌

精密工学会学術講演会講演論文集

巻号頁・発行日

vol.2020, pp.622-623, 2020

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<p>This paper reports development of an optical apparatus for Real-time observation during chemical reactions in Nano-scale process on surface such as CMP (Chemical-Mechanical polishing) and catalysis by applying in evanescent field. Beside using evanescent field to observe Nano-particles in physical aspects, the developed Raman spectroscopy apparatus aims to observe chemical aspects during reactions on processing surface. Changes in Raman scattering spectrum is expected to understand chemical reactions on the processing surface. In this report, the 532 nm wavelength laser source will be used to generate evanescent field. A rotation stage of diffraction grating and a translation stage will used to optimize the Raman spectrum data.</p>

著者

カチョーンルンルアン パナート 木村 景一 BABU Suryadevara V. 鈴木 恵友

出版者

九州工業大学

雑誌

若手研究(B)

巻号頁・発行日

2013-04-01

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ポリシング加工現象を解析するため,被ポリシング面(被加工領域)にエバネッセント光(近接場光)を発生させ,被加工領域に侵入するナノ微粒子の挙動観察を行なった.独自に開発したポリシング機に搭載できるポリシング現象可視化装置により,ポリシングの現象を再現し,SiO2基板で粒径15~100nm(4H-SiC基板では粒径50nmのシリカ)の粒子の挙動を動的に毎秒100フレームで観察することに成功した.