著者

金子 弘 格内 敏 田路 秀樹 西村 淳

出版者

日本実験力学会

雑誌

実験力学 (ISSN:13464930)

巻号頁・発行日

vol.11, no.3, pp.182-187, 2011-09-28 (Released:2012-03-28)

参考文献数

12

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The effect of the visual correction with glasses on the brain activation by reading sentences with characters presented in a stimulus image were measured by the fMRI. In order to move the lens unit inside the fMRI equipment, we choose the suitable materials for the lens holder and jigs. As the results, when stimulus images can be seen clearly, the brain activations are found in the classical language areas. On the other hand, when the visual correction was clear but the target images were blurred, or when the target images were clear but the correction was not sufficient, little activation was found in those areas, although lower visual areas and the frontal eye field / premotor area were activated. The activations in the classical language areas would be much sensitive to whether the character images are readable or not.

著者

格内 敏 厳 希哲 坂本 亨 村上 惇 池田 大作 藤原 紘郎

出版者

一般社団法人 日本機械学会

雑誌

関西支部講演会講演論文集 2000.75 (ISSN:24242756)

巻号頁・発行日

pp._11-53_-_11-54_, 2000-03-16 (Released:2017-06-19)

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Various implants are employed to provide osteosynthesis of the trochanteric fracture of femur by providing mechanical fixation. However, pain due to the stress concentration in the bone and new fracture are caused, when the implant does not physically suit the patient. The purpose of this study is to compare the mechanical properties between fixation implant devices of differing design by holographic interferometry.

著者

和泉 洋輝 格内 敏

出版者

公益社団法人 精密工学会

雑誌

精密工学会学術講演会講演論文集

巻号頁・発行日

vol.2012, pp.477-478, 2012

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ソフトコンタクトレンズ(SCL)の「見え方の質」の向上に関して,本報告ではSCLの波面収差におよぼす温度の影響を調べた.始めにコモンパスの点回折干渉計を用いて,液中のSCLの温度変化が波面に及ぼす影響を調べ,次に有限要素解析によって種々の使用環境温度におけるレンズひずみについて考察した.

著者

木下 博雄 渡邊 健夫 格内 敏 YASHIRODA Yoko YOSHIDA Yukiko KAMEMURA Kazuo 新部 正人

出版者

兵庫県立大学

雑誌

基盤研究(A)

巻号頁・発行日

2003

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本研究は、次世代リソグラフィ技術である極端紫外線露光法を2009年までに実用化するために、その課題の一つであるマスク基板の無欠陥化を目標とする。このため、多層膜が形成されたガラス基板上の欠陥を露光光と同一のEUV光で直接観察し、さらにミラウ型の位相差干渉顕微鏡の構築により、サブナノメートル(0,03nm)の微細な表面界面の3次元像の形成を実現させる。当該研究機関において、1)EUV顕微鏡の製作、2)ビームスプリッタの製作技術、3)プログラム欠陥をもつ位相欠陥マスクの製作と評価、を進めた。1)については、形状精度、表面粗さともに、0.3nm以下を満足させるNA0.3、30倍のシュバルツシュルト光学系を入手し、ニュースバルビームライン3に設置した。2)については、厚さ100nm以下のメンブレン構造とせねばならないことから、膜応力の低減、均一化など、さまざまな改良を進めているが、未だに干渉実験に供するものが出来上がっていない。3)のプログラム欠陥に対しては、HOYAの協力を求め、高さ5nm、幅90nm〜500nmの凹凸欠陥をもつガラス基板に多層膜を形成したマスクにて評価を進めた。この結果、凹、凸とも5nmの高さで90nmの幅をもつ立相欠陥の観察に世界で初めて実現できた。本研究課題の位相差型顕微鏡の開発は、ビームスプリッタの製作の困難さから、現時点では実現できなかった。しかしながら、極端紫外線領域での顕微鏡により位相欠陥の観察が可能となり、ほぼ初期目標を満足させることが出来たと考えている。この種の位相欠陥の観察として、ゾーンプレートを用いる方式も米国Berkeley研究所で行われているが、本方式が解像度、観察領域ともに優れている。今後、この成果は、極端紫外線リソグラフィ用のマスク評価として、HOYA、旭硝子、Seleteの国内機関の他、Samsung電子等に解放し、利用研究が進められる。