著者
田中 耕二 道本 隆裕 荒井 敏夫
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会総合大会講演論文集
巻号頁・発行日
vol.1996, no.2, 1996-03-11

窒化ほう素(BN)は結晶構造や種々の特性において常に炭素(C)と比較される興味ある物質である.六方晶BN(hBN)はCにおけるグラファイトと類似の結晶構造で、固体潤滑材や絶縁材として、立方晶BN(cBN)はダイヤモンドと類似の結晶構造で、電子材料や切削材料などへの応用が期待されている.特にcBNはダイヤモンドに比べて高温まで安定なことや、鉄系材料の切削に対して安定であることは良く知られている.ここでは、サドルフィールド形のイオン源による窒素イオンの照射と、電子銃によるBの蒸発を同時に行う方法により、硬質BN膜を得た.そこで、Si(111)基板上に堆積させた硬質BN薄膜の硬さ(Hd)を、室温(RT)から800℃の範囲で測定した結果について報告する.
著者
田中 耕二 道本 隆裕
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会総合大会講演論文集
巻号頁・発行日
vol.1997, no.2, 1997-03-06

炭窒化ほう素(BCN)は炭素(C)と窒化ホウ素(BN)との複合化合物であり, CとBNの優れた特性を併せ持つ新物質として期待されている。しかし, BCNは未だその単結晶が合成されていないことや, 構成元素が共に軽元素であること, CおよびBNと類似の構造を有すると考えられることなどから, BCNの薄膜合成および同定は極めて困難である。ここでは, サドルフィールド型のイオン源に窒素(N_2)とメタン(CH_4)の混合ガスを導入し, 発生したイオンの照射と, 電子銃によるBの蒸発を同時に行う方法により, B-C-N膜を作製した。そこで, 作製した膜の各種分光法による同定と, Si(111)基板上に堆積させたB-C-N薄膜の硬さ(Hd)を室温(RT)から800℃の範囲で測定した結果について報告する。