- 著者
- 山本 有悟 荒川 翔平 川合 健太郎 有馬 健太 丸山 龍治 林田 洋寿 曽山 和彦 山村 和也
- 出版者
- 公益社団法人 精密工学会
- 雑誌
- 精密工学会学術講演会講演論文集
- 巻号頁・発行日
- vol.2020, pp.415-416, 2020
<p>我々は,大気圧マイクロ波プラズマCVMを用いた中性子顕微鏡用Wolterミラーマンドレルの数値制御加工に取り組み,形状精度約0.5 µmを達成した.実用的な集光性能を得るためには表面粗さの改善が不可欠であるが,プラズマCVMの適用のみでは目標とする表面粗さの実現には至っていない.本報では加工後のマンドレル表面をPSD解析し,プラズマCVMの加工特性を評価した.</p>
- 著者
- 有馬 健太
- 出版者
- 公益社団法人 日本表面科学会
- 雑誌
- 表面科学 (ISSN:03885321)
- 巻号頁・発行日
- vol.38, no.7, pp.330-335, 2017-07-10 (Released:2017-07-20)
- 参考文献数
- 33
We carried out near-ambient-pressure X-ray photoelectron spectroscopy (NAP-XPS) measurements of water-adsorbed ultrathin GeO2 films on Ge substrates, and the results were compared with those for SiO2 films on Si. We obtained NAP-XPS spectra at relative humidity (RH) values of up to ∼15% and showed that the GeO2/Ge structures attract more water molecules than the SiO2/Si structures at RH above ∼10−4%. This is probably because water molecules infiltrate the GeO2 films to form hydroxyls. Then we revealed positive charging of the water-adsorbed SiO2 films by their interaction with X-rays. For the water-adsorbed GeO2 films, we observed greater positive charging of the films, of which origin is discussed.
- 著者
- 荒川 翔平 山本 有悟 川合 健太郎 有馬 健太 山崎 大 丸山 龍治 林田 洋寿 曽山 和彦 山村 和也
- 出版者
- 公益社団法人 精密工学会
- 雑誌
- 精密工学会学術講演会講演論文集
- 巻号頁・発行日
- vol.2020, pp.389, 2020
<p>我々は数値制御プラズマCVMによる中性子顕微鏡用Wolterミラーマンドレルの作製に取り組んでいる.プラズマCVMは化学的な加工法であるため,材料除去率は表面温度に依存する.マンドレルは先細り形状の合成石英棒であるため,プラズマ照射時の温度上昇は先端ほど大きく,材料除去率の上昇分を照射時間で補正する必要がある.本報ではプラズマ照射時間の補正後に,マンドレルを形状修正した結果を報告する.</p>