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文献一覧: 齋藤 正樹 (著者)
11件
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OA
ヴィルヘルム期ドイツにおけるフェルキッシュ運動と宗教
著者
齋藤 正樹
出版者
現代史研究会
雑誌
現代史研究
(
ISSN:03868869
)
巻号頁・発行日
vol.59, pp.1-17, 2013-12-20 (Released:2017-07-01)
参考文献数
77
2
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OA
ヴィルヘルム期ドイツにおける民族至上主義運動と非教会的宗教性の関係について : 雑誌『ハンマー』と『民族教育者』を手がかりに
著者
齋藤 正樹
Masaki SAITO
早稲田大学大学院文学研究科博士後期課程
雑誌
史觀 = Shikan : the historical review
(
ISSN:03869350
)
巻号頁・発行日
no.167, pp.80-99, 2012-09-25
1
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OA
ドイツにおけるデジタル化と歴史学
著者
齋藤 正樹
出版者
現代史研究会
雑誌
現代史研究
(
ISSN:03868869
)
巻号頁・発行日
vol.60, pp.41-54, 2014-12-20 (Released:2017-07-01)
参考文献数
56
1
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目標設定とパフォーマンス・フィードバックによる健康行動の自己予防的介入実施の促進
著者
齋藤 正樹
出版者
日本コミュニティ心理学会
雑誌
コミュニティ心理学研究
(
ISSN:13428691
)
巻号頁・発行日
vol.20, no.1, pp.81-94, 2016-08
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IR
ヴィルヘルム期ドイツにおける民族至上主義と改革運動との関係について--モーリッツ・フォン・エギィディを中心にして
著者
齋藤 正樹
出版者
早稲田大学大学院文学研究科
雑誌
早稲田大学大学院文学研究科紀要 第4分冊
(
ISSN:13417541
)
巻号頁・発行日
vol.52, pp.31-39, 2006
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ヴィルヘルム期ドイツにおけるフェルキッシュ宗教運動と反ユダヤ主義--モーリッツ・フォン・エギィディとヴィルヘルム・シュヴァーナーを例として
著者
齋藤 正樹
出版者
日本ユダヤ学会
雑誌
ユダヤ・イスラエル研究
(
ISSN:09162984
)
巻号頁・発行日
no.23, pp.24-34, 2009-03
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ヴィルヘルム期ドイツにおける民族至上主義運動と非教会的宗教性の関係について : 雑誌『ハンマー』と『民族教育者』を手がかりに
著者
齋藤 正樹
出版者
早稲田大学史学会
雑誌
史觀
(
ISSN:03869350
)
巻号頁・発行日
no.167, pp.80-99, 2012-09-25
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ヴィルヘルム期ドイツにおけるフェルキッシュ運動と宗教 : 雑誌『ハイムダル』における人種と宗教
著者
齋藤 正樹
出版者
現代史研究会
雑誌
現代史研究
(
ISSN:03868869
)
巻号頁・発行日
no.59, pp.1-17, 2013
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ヴィルヘルム期ドイツにおけるフェルキッシュ運動と宗教:― 雑誌『ハイムダル』における人種と宗教 ―
著者
齋藤 正樹
出版者
現代史研究会
雑誌
現代史研究
(
ISSN:03868869
)
巻号頁・発行日
vol.59, pp.1-17, 2013
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IR
価値割引の個人差と時間配分の自己管理との関連性 : 大学院生の論文執筆行動およびそれへの介入効果の差に関する分析
著者
齋藤 正樹
サイトウ マサキ
Masaki Saito
出版者
立教大学心理学研究室
雑誌
立教大学心理学研究
(
ISSN:13462032
)
巻号頁・発行日
no.55, pp.21-31, 2013
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(100)及び(110)基板上のeSiGeによる歪みSiチャネルを有するMetal/High-k Gate Stack MOSFETのデバイス特性(<特集>IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
著者
舘下 八州志
王 俊利
長野 香
平野 智之
宮波 勇樹
生田 哲也
片岡 豊隆
菊池 善明
山口 晋平
安藤 崇志
田井 香織
松本 良輔
藤田 繁
山根 千種
山本 亮
神田 さおり
釘宮 克尚
木村 忠之
大地 朋和
山本 雄一
長濱 嘉彦
萩本 賢哉
若林 整
田川 幸雄
塚本 雅則
岩元 勇人
齋藤 正樹
門村 新吾
長島 直樹
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス
(
ISSN:09135685
)
巻号頁・発行日
vol.106, no.504, pp.5-8, 2007-01-19
ダマシンゲート構造を有するMetal/High-kゲートスタックとeSiGe S/Dを用いた歪みSiチャネルを組み合わせたMOSFETの試作にはじめて成功した。ゲート電極材料には、nFET用にHfSix、pFET用にTiNを採用した。その結果、Vd=1 V, Ioff=100nA/um, Tinv=1.6nmで、nFET: 1050uA/um、pFET: 710uA/umの特性が(100)基板上で得られた。さらに(110)基板上のpFETのインテグレーションにも成功し、830uA/umの特性が得られた。これらの特性は0.03A/cm^2以下の低ゲートリークの条件下で実現した。