文献一覧: 一般社団法人表面技術協会 (出版者)

2 0 0 0 OA エシカル・メタル:SDGsに向けた都市鉱山開発の意義

著者: 原田幸明
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.73, no.6, pp.266-271, 2022-06-01 (Released:2022-12-01)
参考文献数: 7

2023-01-02 10:11:28
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2 0 0 0 OA 錯体化学の基礎

著者: 中原勝儼
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 金属表面技術 (ISSN:00260614)
巻号頁・発行日: vol.29, no.3, pp.150-157, 1978-03-01 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 9

2022-10-07 00:06:20
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2 0 0 0 OA CVDグラフェンを用いた透明アンテナ

著者: 黄晋二小菅祥平須賀良介渡辺剛志橋本修
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.72, no.8, pp.433-438, 2021-08-01 (Released:2022-02-01)
参考文献数: 18

2022-09-25 23:10:19
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2 0 0 0 OA 金属材料の高温酸化とその対策

著者: 椙山正孝
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 金属表面技術 (ISSN:00260614)
巻号頁・発行日: vol.10, no.9, pp.323-328, 1959-09-20 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 19
被引用文献数: 1

2022-08-03 19:55:53
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2 0 0 0 OA RFプラズマCVD法により作製したDLC薄膜の熱電性能評価

著者: 中村雅史原口忠男内山賢
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.61, no.4, pp.325, 2010-04-01 (Released:2010-11-11)
参考文献数: 24
被引用文献数: 2 2

This paper presents an investigation of the thermoelectric performance of DLC films deposited on glass substrates using RF plasma CVD method. The respective thermoelectric performances of Si-doped DLC film and non-Si doped DLC film were evaluated and compared. The DLC films showed a Seebeck effect, and they had p-type semiconductor characteristics.The values of DLC films’ Seebeck coefficients were 1/5 - 1/100 compared to those of the conventional thermoelectric materials. At temperatures of 80-200°C, the Seebeck coefficients of Si-doped DLC and non-doped DLC were almost identical. The resistivity value of DLC films decreased exponentially with increasing temperature. Furthermore, the DLC film values were much larger than those of conventional thermoelectric materials: 105 to 1010 times larger. The thermal conductivity of DLC films was about one-half that of conventional thermoelectric materials at room temperature. The results presented above suggest that reducing DLC film resistivity through control of deposition conditions, doped element composition, and other means must be examined to raise the thermoelectric performance of DLC film.

2022-07-05 07:05:13
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2 0 0 0 OA ポーラログラフィーの原理と分析事例

著者: 吉田康平市場計輔
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.63, no.9, pp.562, 2012-09-01 (Released:2013-03-27)
参考文献数: 1

2022-03-30 07:20:48
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2 0 0 0 OA 塗装前処理の最近の進歩

著者: 永井由太郎
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 金属表面技術 (ISSN:00260614)
巻号頁・発行日: vol.11, no.10, pp.478-480, 1960-10-20 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 6

2021-06-08 17:57:34
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2 0 0 0 OA 磁気研磨の原理と最新応用

著者: 中野修
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.57, no.11, pp.764, 2006 (Released:2007-06-05)
被引用文献数: 2

2021-06-08 00:09:50
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2 0 0 0 OA アブラムシの蜜輸送技術に倣った粉体粘着剤の創出

著者: 藤井秀司中村吉伸秋元信一
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.68, no.3, pp.121-126, 2017-03-01 (Released:2018-03-01)
参考文献数: 46

2021-04-03 21:16:40
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2 0 0 0 「歌って踊れ」なくても誠実・純朴 : 高専生に根ざす長岡技科大の校風雑感

著者: 松原浩
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 = The journal of the Surface Finishing Society of Japan (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.63, no.7, pp.396-400, 2012-07-01
参考文献数: 5

2021-01-30 09:46:25
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2 0 0 0 OA 界面ナノ制御による高効率太陽光エネルギー変換

著者: 中戸義禮
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.57, no.3, pp.194, 2006 (Released:2006-09-14)
参考文献数: 32

2020-12-10 22:47:38
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2 0 0 0 OA 界面活性剤による帯電抑制

著者: 後藤伸也
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.56, no.8, pp.447, 2005 (Released:2006-03-29)
参考文献数: 6
被引用文献数: 2

2020-12-01 23:44:23
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2 0 0 0 OA ゾル-ゲル法のあらまし:ゾル-ゲル技術とその応用

著者: 作花済夫
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.57, no.6, pp.390, 2006 (Released:2006-12-18)
参考文献数: 41
被引用文献数: 8 7

2 0 0 0 OA 電子機器冷却における表面の重要性

著者: 畠山友行
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.66, no.6, pp.232-235, 2015-06-01 (Released:2016-06-01)
参考文献数: 14

2020-08-13 03:35:23
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2 0 0 0 OA LED照明を用いた植物工場

著者: 宮本眞吾
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.61, no.9, pp.641-641, 2010-09-01 (Released:2011-03-25)
参考文献数: 19

2020-07-01 20:20:34
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2 0 0 0 OA NaCl水溶液から生成した酸性電解水と同じ組成を有する酸性合成水の調製と特性,およびこれらに浸漬した銅の溶解挙動

著者: 竹ノ内敏一片桐広子岩野恵子中村敦子
出版者: 一般社団法人表面技術協会
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.61, no.9, pp.658, 2010-09-01 (Released:2011-03-25)
参考文献数: 13
被引用文献数: 2 1

The authors, using sodium hypochlorite solution, hydrochloric acid, and sodium chloride, prepared acidic synthesized water having the same characteristics and composition as an anodically electrolyzed sodium chloride solution (acidic electrolyzed water). The following findings were obtained by investigating the characteristics of each solution and the dissolution behavior of copper. 1) The dissolved oxygen concentration and free chlorine concentration decrease immediately after electrolysis in acidic electrolyzed water. Their rates of decline are higher than in acidic synthesized water. 2) The dissolution rate and surface morphology of copper immersed in the respective solutions are almost identical. 3) Free chlorine in these solutions accelerates the dissolution rate. The dissolved chlorine increases the surface roughness of copper. 4) Oxygen nanobubbles probably exist much in acidic electrolyzed water. 5) Dissolution behavior of copper immersed in acidic electrolyzed water differs between during electrolysis and after electrolysis. Dissolution rate of copper is larger, and surface was not roughened in acidic electrolyzed water during electrolysis. These phenomena are presumably attributable to the actions of hydroxyl radicals generated during electrolysis.