著者

深尾 正

出版者

大阪歯科学会

雑誌

歯科医学 (ISSN:00306150)

巻号頁・発行日

vol.54, no.2, pp.g71-g72, 1991-04-25 (Released:2017-02-23)

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化学的に活性の高いフッ素 (以下F) がエナメル質の脱灰過程に存在すると, きわめて著明な脱灰抑制を示すことが報告されている. Intraoral fluoride releasing device (以下IFRD) は, 口腔内に長期間一定量のFを放出することが可能で, 低濃度のFがエナメル質に効果的に取り込まれ, 齲蝕抑制効果が期待できる新しいF応用法である. そして, このIFRDから放出される低濃度のFにも同様の脱灰抑制があると考えられる. IFRDによるエナメル質へのFの取り込みやエナメル質の結晶性および耐酸性の向上については, 報告されているがIFRDから放出される低濃度Fによる脱灰過程のエナメル質における脱灰抑制効果については未だ研究されていない. そこで本研究では, IFRDによる特徴的な脱灰抑制効果を検討するため, 脱灰液中にFを添加し, ウシエナメル質の脱灰におよぼす影響を検討した. また, IFRDを口腔内に長期間使用した場合を想定すると, すでにFが取り込まれたエナメル質に齲蝕が侵襲することも考えられるので, すでに取り込まれたFと新たに口腔内に放出されたFとの複合効果についても検討した. ウシ下顎永久切歯唇面から6×6×3mmのブロックを作製し, エナメル質試料とした. エナメル質試料をNaFの添加により, 0, 0.3, 1.0, 10.0, 100.0ppmの5段階のF濃度のフッ化物溶液に30, 60および90日間浸漬した. 同試料を37℃, 24時間, 1M KOHに浸漬後, 0.5M HClO_4で連続脱灰を行い, Fは, F複合電極 (オリオンリサーチ, 96-09) で, また, カルシウム (以下Ca) は, 原子吸光分光光度計 (日立製作所, 508) でそれぞれ測定し, エナメル質の層別F濃度を算出した. 次に脱灰液中のFの脱灰抑制効果を検討するために未浸漬のエナメル質試料を用い, NaFの添加により, 0, 0.3, 1.0, 10.0, 100.0ppmの5段階のF濃度でpHを4.4に調整した0.2M酢酸緩衝液で48時間脱灰した. また, 複合効果を検討するために, フッ化物溶液に浸漬後のエナメル質試料を用い, 浸漬液と同一のF濃度の酢酸緩衝液で同様に脱灰した. 脱灰後, 溶出Ca量を原子吸光分光光度計を用い, 溶出リン (以下P) 量をEASTOE法によりそれぞれ測定した. さらに脱灰エナメル質面をSEM (日立製作所, X-560) 観察するとともに, エックス線マイクロアナライザー (日立製作所, X-560) でCa, PおよびFについて同面の元素分析をそれぞれ行った. また, Weatherell et al. のabrasive法を用いて脱灰エナメル質中のF濃度およびCa濃度を測定した. さらに微小部エックス線回折装置 (リガク社, RAD-RC+PSPC/MDG) で脱灰後の反応生成物の定性分析を行った. その結果, 以下の結論を得た. 1) 脱灰液中のF濃度が高いほど脱灰量は減少した. また, 脱灰時間が経過するに従って脱灰量は減少傾向を示し, その傾向は脱灰液中のF濃度が高いほど著明であった. 2) Abrasive法により脱灰エナメル質に取り込まれたF量を測定したところ, 脱灰液中のF濃度が高いほど多量にエナメル質深部にまでFが取り込まれていた. また, いずれの実験においてもエナメル質の脱灰層に多量のFが認められた. 3) 脱灰後の反応生成物をエックス線回折法で定性分析を行った結果, 脱灰液中のF濃度が100.0ppmでは, エナメル質の最表層部にCaF_2の形成が認められた. 4) フッ化物溶液に浸漬したエナメル質をFを含む脱灰液で脱灰した場合, 脱灰量は著明に減少した. 以上のことから, IFRD法を想定し, Fをエナメル質の脱灰過程に作用させると脱灰部にFが取り込まれ, 同部が強化され, 脱灰が抑制されるとともにF濃度100.0ppmではCaF_2が形成されることが明らかになった.

著者

深尾 正

出版者

一般社団法人 電気学会

雑誌

電氣學會雜誌 (ISSN:00202878)

巻号頁・発行日

vol.101, no.10, pp.965-969, 1981-10-20 (Released:2008-04-17)

参考文献数

13

被引用文献数

1

著者

赤木 泰文 小笠原 悟司 竹本 真紹 藤田 英明 佐藤 之彦 市川 修 深尾 正 数乗 有

出版者

東京工業大学

雑誌

基盤研究(B)

巻号頁・発行日

2000

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現在,高エネルギー加速器研究機構が中心になって計画を進めている大型ハドロン計画(JHL : Japan Hadron Facility)の50GeV陽子加速器には55MWの高性能・大容量の電磁石電源が必要となる。この電磁石電源は,電磁石電流が0〜5kA,有効電力が+55MW〜-55MW,周期約4秒で激しく変動する。しかも陽子加速器はひとたび実験に入ると,昼夜を問わず2,3週間の連続運転が行われる。このような連続した激しい電力変動は,周囲の配電系統だけでなく上位の電力系統に種々の障害を引き起こす恐れがあるため,電力変動の抑制を目的とした電力補償装置の設置が必要不可欠となる。本研究では,加速器電磁石電源の電力変動を抑制する交流励磁フライホイール発電機システムの開発を目的としている。具体的には理論解析とコンピュータシミュレーションをベースに,7.5kW実験システムを設計・製作し,交流励磁フライホイール発電機システムの有効性を実証しようとするものである。本研究の成果は,以下のように要約することができる。1.立型フライホイール発電機を設計した。次に,交流励磁用PWMコンバータ・インバータを設計・製作し,7.5kW実験システムの基礎特性を評価した。2.交流励磁フライホイール発電システムの新しい制御法として,交流電動機ベクトル制御と非干渉制御を融合した制御法を開発し,その有効性を実験によって確認した。3.交流励磁フライホイール発電機の直流偏磁現象を実験的に検討し,直流偏磁を抑制する新しい制御法を開発した。さらに,その有効性を実験によって確認した。

著者

深尾 正之 斉藤 愿治 小村 浩夫 神藤 正士

出版者

静岡大学

雑誌

一般研究(C)

巻号頁・発行日

1991

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この研究は、通常の雪かきモデルの成立するピンチプラズマと異なり、高速電子成分を含む非平衡プラズマを生成することが目的である。その方法として、放電電圧印加後にガスを導入して点孤させる爆燃放電を採用した。通常のガスパフZピンチプラズマ型の構造を持つ放電電極を用い、電極間に並列に接続したインダクタンスに電流を流して、予め電極に電圧を印加した後に、ガスを導入することにより、爆燃モ-ドとした。これにより、通常のガスパフZピンチ放電との比較を行なうことができた。電源には、3.75μFの低インダクタンス高速キャパシタ-及びギャップスイッチを用い、20kVまで印加した。非平衡プラズマでは、数keVの電子を多数生成する必要があり、印加電圧を低く抑えた。X線発生量の時間依存計測は、表面障壁型ダイオ-ド(SBD)とアルミニウム・フィルタ-を組み合わせて行った。X線放出量が多く、SBD出力が飽和するのを避けるために、直径1mmのピンホ-ルで絞り、かつプラズマから80cmの距離をおいて測定した。これまで、X線収量の放電電圧依存性を測定してきた。従来型Zピンチプラズマでは、電圧の上昇とともに、X線量が急上昇するのに対し、爆燃放電では、X線発生量が充電電圧に余り依存しないという特徴のある依存性が明らかになったが、X線収量の絶対値は、同程度ないし、後者の方が少ないという結果しか得られていない。X線放出の空間分布は、ポラロイドフィルムを用いたピンホ-ルカメラで測定した。放電条件により、プラズマ及び電極から放出されることが判った。並行して、X線スペクトルの測定を目的とする、プロポ-ショナルガスカウンタを試作してきた。これまでに、^<55>Feからの5keV X線にたいしてFWHM15%程度の性能を得ているが、信頼度・再現性の改善がなお必要である。