出版者
巻号頁・発行日
vol.[2] 文政七申年従正月至七月,

1 0 0 0 OA 官報

著者
大蔵省印刷局 [編]
出版者
日本マイクロ写真
巻号頁・発行日
vol.1942年03月09日, 1942-03-09

1 0 0 0 OA 滋野井家記録

出版者
巻号頁・発行日
vol.[12],
著者
久城 圭 林 紀男 西廣 淳
出版者
応用生態工学会
雑誌
応用生態工学 = Ecology and civil engineering (ISSN:13443755)
巻号頁・発行日
vol.12, no.2, pp.141-147, 2009-12-30
参考文献数
22
被引用文献数
1 2

印旛沼の湖岸には,1960年代に湖底から浚渫された土砂を用いて造成された「高水敷」が存在する.この高水敷の土砂中に,現在の印旛沼の地上植生からは消失した沈水・浮葉植物の散布体バンクが存在している可能性について検証するとともに,散布体バンクからの個体を定着・成長させ種子生産させることでこれらの植物の保全に寄与することを目的として,高水敷に浅い池を造成する事業が千葉県により実施された.造成された6つの池のうち2つでは,絶滅危惧種であるガシャモク,シャジクモ,オトメフラスコモを含む8種の沈水・浮葉植物が確認された.沈水植物が出現した池では多数の種子が新たに生産されていることも確認され,この事業が散布体バンクの保全にも寄与したことが示された.しかし,4つの池では水生植物は確認されず,散布体バンクの分布には空間的な偏りがあることが示唆された.
著者
Zhihua Yue Jinhai Shi Haona Li Huiyi Li
出版者
The Pharmaceutical Society of Japan
雑誌
Biological and Pharmaceutical Bulletin (ISSN:09186158)
巻号頁・発行日
vol.41, no.2, pp.158-162, 2018-02-01 (Released:2018-02-01)
参考文献数
25
被引用文献数
11

Nonsteroidal anti-inflammatory drugs (NSAIDs) are likely to be used concomitantly with acyclovir or valacyclovir in clinical practice, but the study on the safety of such combinations was seldom reported. The objective of the study was to investigate reports of acute kidney injury (AKI) events associated with the concomitant use of oral acyclovir or valacyclovir with an NSAID by using the United States Food and Drug Administration (FDA) Adverse Event Reporting System (AERS) database between January 2004 and June 2012. The frequency of AKI events in patients while simultaneously taking either acyclovir or valacyclovir and an NSAID was compared using the Chi-square test. The effect of concomitant use of acyclovir or valacyclovir and individual NSAIDs on AKI was analyzed by the reporting odds ratio (ROR). The results showed that AKI was reported as the adverse event in 8.6% of the 10923 patients taking valacyclovir compared with 8.7% of the 2556 patients taking acyclovir (p=NS). However, AKI was significantly more frequently reported in patients simultaneously taking valacyclovir and an NSAID (19.4%) than in patients simultaneously taking acyclovir and an NSAID (10.5%) (p<0.01). The results also suggested that increased risk of AKI was likely associated with the concomitant use of valacyclovir and some NSAIDs such as loxoprofen, diclofenac, etodolac, ketorolac, piroxicam or lornoxicam. The case series from the AERS indicated that compared with acyclovir, valacyclovir is more likely to be affected by NSAIDs, and the concomitant use of valacyclovir with some NSAIDs might be associated with increased risk of AKI. The drug interactions with this specific combination of medications are worth exploring further.

1 0 0 0 OA 沙石集 : 10巻

著者
無住 [著]
出版者
巻号頁・発行日
vol.[2],
著者
渡辺 恭良 倉恒 弘彦
出版者
医学書院
雑誌
BRAIN and NERVE-神経研究の進歩 (ISSN:18816096)
巻号頁・発行日
vol.70, no.1, pp.5-9, 2018-01-01

1990年に木谷照夫,倉恒弘彦らにより日本第一号の患者が発見された筋痛性脳脊髄炎/慢性疲労症候群は,慢性で日常生活に支障をきたす激しい疲労・倦怠感を伴う疾患であり,1988年に米国疾患管理予防センターが原因病原体を見出すための調査基準を作成し,世界的にその診断基準が広まったものである。かなりのオーバーラップがみられる疾患に線維筋痛症があり,また,機能性ディスペプシアなども含めて,機能性身体症候群という大きな疾患概念も存在する。客観的診断のためのバイオマーカー探索も鋭意行われ,わが国におけるPET研究によって,脳内のセロトニン神経系の異常やさまざまな症状と神経炎症の強い関わりなどが明らかになってきた。一方,このような最新の知見を踏まえた治療法の開発研究も鋭意行われている。
出版者
京都大學經濟學會
雑誌
經濟論叢 (ISSN:00130273)
巻号頁・発行日
vol.154, no.6, pp.147-157, 1994-12
著者
田村 文造
出版者
公益社団法人 日本分析化学会
雑誌
分析化学 (ISSN:05251931)
巻号頁・発行日
vol.16, no.3, pp.193-205, 1967-03-05 (Released:2010-02-16)
参考文献数
3
被引用文献数
1 2

従来終点が不明りょうなため水溶液中の滴定が困難であった物質を精度よく定量するために,吸光度比法を開発した.酸塩基滴定の場合,酸性色とアルカリ性色のスペクトルが著しく異なる,適当なpH指示薬を選び,それぞれの吸収極大の吸光度をAλ1,Aλ2とすると,吸光度比r=Aλ2/(Aλ1+Aλ2)は当量点付近のpHのわずかな変化に対応して大きく変化する.あらかじめ,中和度の逆数xとrとの検量線を作成しておけば,容易に正確な当量点を決定することができる.この方法によれば,一般に,ビュレットは不必要となり,全量ピペットで一度に標準液を加えることができ,精度も向上する.有機酸アルカリ塩の定量に適用した場合,従来法に比べ変動係数は0.2%から0.07%に減り,定量所要時間も1/6となった.この吸光度比法を公定書の原薬,試薬の定量に適した方法として提出する.
著者
平井 悠久
出版者
東京大学
雑誌
特別研究員奨励費
巻号頁・発行日
2015-04-24

本研究は、電力の制御に関わる技術体系であるパワーエレクトロニクスにおける、要素素子の高性能化に関する研究である。シリコンカーバイド(SiC)は、次世代パワーエレクトロニクス材料として要素素子の性能を向上可能な物性を有しているが、SiCと絶縁膜を積層して形成するMOS界面に導入されてしまう界面欠陥の除去が技術的課題である。本研究は、SiC/SiO2からなるMOS界面の材料学的な構造を、電子デバイスにおいて重要となるナノメートル領域に対して調査し、電子デバイスの性能を向上させる手法を獲得することを目的として行った。本年度は、昨年度に着目したウェット雰囲気を応用した実験により、4H-SiCのSi面上に形成したMOS界面の電気特性の評価を行った。ウェット雰囲気を用いて、MOS界面の特性を表す重要な指標であるチャネル移動度およびしきい電圧に注目して評価を行った。現状の技術では、これらはトレードオフ関係にあるが、本研究では両者を独立に制御する手法について検討した。その結果、界面近傍の領域のみを選択的に処理する低温(800度程度)ウェット処理を用いることで、チャネル移動度を現状の標準プロセスと同等以上に向上させつつ、しきい電圧を構成する一つの成分であるフラットバンド電圧の変動を独立に制御できることを明らかにした。これは、低温を用いることで界面にのみ選択的にウェット処理の効果を適用し、フラットバンド電圧変動の原因となる電荷の形成を抑制することが可能になったためと考えられる。本研究の成果の一部について、当該分野最大の国際会議であるICSCRM2017において口頭発表を行った。このように、チャネル移動度向上のためのSiC上のMOS界面形成に対するプロセス指針を提示した。