著者
池尾 玲子
出版者
東京経済大学
雑誌
コミュニケーション科学 (ISSN:1340587X)
巻号頁・発行日
no.26, pp.51-72, 2007-03-21

The use of evaluative expressions in the text does not only reflect the speaker/writer's attitude and viewpoint but also a value-system of the community which the speaker/writer belongs to. Awareness of an evaluative function of language can help mature learners to interpret the speaker/writer's intention and attitude behind the text. In this study, the concept of evaluation is applied to a second language reading class. Comparing lead paragraphs of four different newspaper articles on the same topic helped students who had very little or no experience in linguistic analysis to identify value-laden expressions. Reading a short passage about the same issue also enabled the students to predict the meaning of unknown words and expressions. The comparing process motivated the students to choose one article over others and promoted further reading of the text. The study also revealed inexperienced learners' misconceptions that if a newspaper article had fewer evaluative expressions the article kept an objective point of view and that certain media discourse could be free from the reporter's opinions.
著者
丸山 信
出版者
三田史学会
雑誌
史学 (ISSN:03869334)
巻号頁・発行日
vol.51, no.3, pp.80-80, 1981-12

余白録
著者
滝澤 功 長尾 徹 佐藤 弘喜 大嶋 辰夫 赤澤智 津子
出版者
Japanese Society for the Science of Design
雑誌
デザイン学研究 (ISSN:09108173)
巻号頁・発行日
vol.61, no.4, pp.4_57-4_64, 2014

本稿は,ニュースサイト上の見出し記事を探索する過程において,知覚した注視順序と認知した想起順序の相関関係に着目した。その相関関係と探索性との関係を示し,探索性の評価方法を提案した。まず,探索性に影響するニュースサイトの要素をラフ集合によって抽出し,その要素が含まれた既往ニュースサイトをもとに注視領域と想起領域を示した。そして,注視領域外と想起領域外を削除したサンプルで検証し,注視順序と想起順序の順位相関関係は探索性の主観評価に関係することを明らかにした。本稿によって示唆された注視順序と想起順序の順位相関による探索性の評価は,Web サイトにおける探索性を知覚領域と認知領域とで複合的に調査でき,探索性の高いWeb サイト作成の指針につながると期待される。
出版者
安田十兵衛
巻号頁・発行日
vol.[1], 1634
著者
増澤 拓也
出版者
一般社団法人 日本体育学会
雑誌
日本体育学会大会予稿集 第68回(2017) (ISSN:24241946)
巻号頁・発行日
pp.97_2, 2017 (Released:2018-02-15)

スラックラインと呼ばれる2点間に張った平らなロープ上でバランスをとる綱渡りのようなスポーツが、バランス能力を向上させるトレーニングとして注目されている。また、上部から吊したロープを用い、不安定な環境にて自重を利用して負荷をかけるサスペンショントレーニングが、姿勢安定時に重要である体幹部の堅牢性を高める手法として、関心を集めている。この両者のトレーニングはいずれもバランス向上を目的としているが姿勢制御様式は真逆であると考えられる。本研究の目的は、スラックラインおよびサスペンショントレーニングが姿勢安定性向上に及ぼす効果を明らかにすることである。実験参加者をスラックライントレーニング(SL)群とサスペンショントレーニング(SP)群に配置し、30分間のトレーニングを週3回のペースで合計10回実施した。その訓練前後において重心動揺計とビデオカメラを用い、姿勢安定性の評価・分析をおこなった。分析の結果、両群ともに重心動揺が安定した。また、SL群では体幹部を積極的に動かすことで姿勢制御し、SP群では体幹部を動かないように保持することでバランスを安定させる方略を選ぶことが示唆された。

1 0 0 0 OA 侯鯖一臠 5巻

著者
亀田鵬斎
出版者
山城屋佐兵衛[ほか4名]
巻号頁・発行日
vol.[5], 1842
出版者
The Japan Year Book Office
巻号頁・発行日
vol.1910, 1909
著者
武信由太郎 編
出版者
研究社
巻号頁・発行日
1940

1 0 0 0 青年

著者
英語青年社
出版者
英語青年社
巻号頁・発行日
1898
著者
武信由太郎 著
出版者
開成館
巻号頁・発行日
vol.第1巻, 1917
著者
Yamamoto Keiji
出版者
社団法人応用物理学会
雑誌
Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes (ISSN:00214922)
巻号頁・発行日
vol.34, no.4, pp.2043-2048, 1995-04-15
参考文献数
10
被引用文献数
1

A mechanical stress simulator for surface-mount devices was developed, which employed the finite-element method. The moisture distribution stage can calculate the moisture distribution of the LSI package exposed to temperature and humidity conditions. The heat conduction stage determines the time-dependent temperature distribution of the package immersed in a solder bath. Using the moisture and temperature distributions thus calculated, the mechanical stress stage gives the mechanical stress distribution in the package. Two groups of samples were prepared for solder dipping experiments. In one group, after dry baking for initialization, samples absorbed moisture by exposure at 30°C 85% (absorption process). In the other group, samples were exposed at 85°C 85% for 168 h and then dry-baked at 70°C (desorption process). These two groups have different moisture distributions in their packages. The results of solder dipping experiments are analyzed from the calculated mechanical stress values. In the absorption process, calculated maximum von Mises equivalent stress over the sectional molding compound $\bar{\sigma}_{\rm max}$ increases monotonically with absorption time. Then, $\bar{\sigma}_{\rm max}$ approaches its saturated value as absorption time tends to infinity. In the desorption process, $\bar{\sigma}_{\rm max}$ decreases with desorption time and approaches the thermal stress value when desorption time tends to infinity. These calculations explain the effect of moisture distribution on package cracking.
著者
仮名垣魯文 作
出版者
辻岡屋文助
巻号頁・発行日
vol.初編, 1864
著者
Li Tsung-Lung Ting Jyh-Hua
出版者
公益社団法人 応用物理学会
雑誌
Japanese Journal of Applied Physics (ISSN:00214922)
巻号頁・発行日
vol.44, no.8, pp.6327-6331, 2005
被引用文献数
3

The temporal saturation effects of the critical dimensions of nanoscale contact holes are investigated by a two-dimensional reaction–diffusion simulator for the chemical shrink techniques of nanolithography. Models included with the simulator are the crosslinking reaction of water-soluble polymers and crosslinkers, the diffusion of photoacids, and the inactivation of photoacids. Within the the statistical errors of the experimental data, the simulation critical dimensions agree with the experiment for baking temperatures over 105°C and for all baking times. It is found that the temporal saturation of the contact holes' critical dimensions can be explained by the photoacid inactivating reaction included in the simulator.
著者
Sekiguchi Atsushi Isono Mariko Matsuzawa Toshiharu
出版者
公益社団法人 応用物理学会
雑誌
Japanese Journal of Applied Physics (ISSN:00214922)
巻号頁・発行日
vol.38, no.8, pp.4936-4941, 1999
被引用文献数
8

By incorporating baking equipment into a Fourier transform infrared (FT-IR) spectrometer, a deprotection reaction parameter measurement system that can be used with chemically amplified resists has been developed. This system allows us to study new models for chemically amplified (CA) resists by including into a conventional deprotection reaction model an initial delay effect and a quencher effect. This model is also used to measure deprotection reaction parameters. The parameters thus obtained are inputted into a lithography simulator PROLITH/2 to perform profile simulations. The results are compared with those of scanning electron microscope (SEM) observations. Although the simulation results and SEM observations are not in complete agreement, the general trends observed are in adequate agreement. These results confirm the applicability of the proposed model to CA resists for ArF excimer laser lithography and verify the usefulness of the measurement system.