著者

丸山千亜紀

出版者

摂南大学

雑誌

摂南大学教育学研究 (ISSN:13498118)

巻号頁・発行日

vol.6, pp.89-100, 2010-01

著者

長谷川 信子

出版者

神田外語大学

雑誌

言語科学研究 : 神田外語大学大学院紀要 (ISSN:13476203)

巻号頁・発行日

vol.16, pp.11-31, 2010-03

被引用文献数

1

著者

原山 煌 Harayama Akira ハラヤマ アキラ

出版者

国立民族学博物館

雑誌

国立民族学博物館研究報告別冊 (ISSN:0288190X)

巻号頁・発行日

vol.020, pp.69-134, 1999-03-29 (Released:2015-11-19)

著者

町井 輝久

出版者

北海道大學教育學部 = THE FACULTY OF EDUCATION HOKKAIDO UNIVERSITY

雑誌

北海道大學教育學部紀要 (ISSN:04410637)

巻号頁・発行日

vol.60, pp.59-106, 1993-02

著者

永田 萬享 NAGATA Kazuyuki

出版者

名古屋大学教育学部技術職業教育学研究室

雑誌

職業と技術の教育学 (ISSN:13442627)

巻号頁・発行日

vol.11, pp.17-34, 1998-03-25 (Released:2006-01-05)

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When we discuss about japanese style of management in relation to labour process, we take into consideration of automobile industry as a model of processing and assembling industry. Work in automobile industry is divided into line work and maintenance work. The former is intensive and monotonous work which doesn't need intellectual judgments. The latter is brain work which needs scientific knowledges about computer control, electricity and electronics. Since 1988,Polytechnic Colleges within enterprise for authorized vocational training have been established by some companies to meet their demands for technicians and they have trained technicians. Aim of Polytechnic Colleges is to develop personnel who can understand theory, manufacture products, and behave most appropriately in each situation within a two-year period. In the 1st year, emphasis is placed on learning the basics of electrical engineering, electronic engineering, microcomputer control, mechanical engineering, etc. From the 2nd year, students take more practically oriented classes, such as electromechanics, and also work on the development of a specified project. Projects for application and development are chosen to match the students' future area of activity. Those who make a special study of electronics course are arranged into research and development department, trial production department. On the other hand, those who make a special study of mechatoronics course are arranged into improvement group or maintenance group of production department.

著者

寺田 盛紀 TERADA Moriki

出版者

名古屋大学教育学部技術職業教育学研究室

雑誌

職業と技術の教育学 (ISSN:13442627)

巻号頁・発行日

vol.15, pp.83-111, 2002-04-30 (Released:2006-01-05)

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In this paper, I try to clarify the historical characteristic of the practical learning in enterprises, so called Japanese "internship", which was introduced into the revised course of study for Upper Secondary Schools in 1999,through empirical and qualitative analyses of its developmental process. I make ready five conceptual apparatuses for my analyses and interpretations concerning each change at each stage. They are as the following. 1) educational goal and contents of some or total course, 2) demographic aspect, especially in the number of students at the vocational courses, 3) situations of student recruitment and employment, 4) facilities and equipment for practical leaning within schools, 5) developmental situation of students as total, at upper secondary level. I can point out the following three conclusions through my investigations. First, following strictly descriptions on eight courses of study after 1947,it is possible to divide into four developmental stages for practical learning. 1) At the first stage, from the first course of study in 1947 to the second revised one in 1956 (operative till 1962), it was positioned as a part of vocational courses. 2) The second stage which restricted practical learning in enterprise in some pedagogical points, but recommended it as a meaningful learning method for part time vocational students, ran from revised curriculum 1960 (operative from 1963) to 1970 (till 1982). The third period had succeeded till the newest revised course of study made in 1999,since 1978. It had tried to introduce the work experience learning (called as "Kinro Taiken Gakushu" in Japanese) into all senior high schools. The final stage is the present one after revised program in 1999 that involves a little more positive work experience, and as starts from next year as "internship learning" in Anglo-American sense. On the other hand, the development of practical learning in enterprises at course of study doesn't always coincide with the process of changes at the substantial level. 1) The first stage coincided with each other, but the second stage had a origin in the revised Law of School Education in 1961 and is named as a "Japanese Dual System" by me. 2) The second stage, "Japanese Dual System", was applied only to part time vocational students, moreover there were few results concerning the practical learning outside schools till revised course of study 1978 was made. 3) Therefore we can dare to add the third stage as a vacant one. 4) The fourth stage had succeeded since 1978 till 1999 (2003) and had been taking two styles for practical learning in enterprise, one was the work experience for all high school students, especially in general courses, the other was praxis in industry for vocational courses. 5) Of course, today after revised course of study 1999,we are confronted with realization of "internship" for career education. Now I try to point out more meaningful factors that influenced developments and changes of practical learning outside school. 1) Regarding the transition from the first to the second stage, two aspects functioned critically. One was the roll of the well- known financial act, "Sangyo Kyoiku Sinko-Ho" which aimed to improve and full the equipment and facilities in vocational schools since 1951. Japanese High Schools could not help using facilities in enterprises outside schools as practical site for a long time. 2) I can pick up the other factor that had so meaningful function in the establishment process of Japanese vocational education system. It meant the "internalization of vocational education into vocational schools", saying in other word, they tried to expand vocational subjects and reinforce the specialty level of each student only within schools. I can also interpret that the decline of cooperative vocational education between part time vocational schools and formal training within enterprises depended on 3) the hustle phenomenon to full time and General High Schools, and

著者

篠原 明子 有賀 悦子

出版者

日本緩和医療学会

雑誌

Palliative Care Research (ISSN:18805302)

巻号頁・発行日

vol.3, no.2, pp.331-334, 2008 (Released:2008-10-24)

参考文献数

11

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【目的】今回, 門脈高度狭窄症例において経口投与されたオピオイドにより予測を超えた傾眠を呈し, 投与経路変更にて改善した1例を経験したので報告する. 【症例】下部胆管がんの術後局所再発およびリンパ節転移により門脈高度狭窄をきたした60歳代女性に, 外科で経口オキシコドン徐放錠剤10mg/日が投与され, 傾眠が出現したため当科に診察依頼があった. 生体利用率は低いが分割投与が可能な散剤を用いて, 経口モルヒネ徐放剤10mg/日に切り替え, さらに投与量を5mg/日に減量したが, 傾眠は持続した. これをフェンタニル貼付剤2.5mg半面貼付に変更したところ, 症状が改善した. 【結論】門脈血流低下症例では, 初回通過効果を受けないために経口オピオイド製剤の血中濃度が上昇する可能性があり, 投与時に十分な観察が必要である. また, 経口から経皮へのオピオイド投与経路変更が血中濃度上昇に伴う副作用の改善に有用である可能性が示唆された. Palliat Care Res 2008; 3(2): 331-334

著者

西田 貴司 堀内 俊寿 塩嵜 忠 松重 和美

出版者

一般社団法人電子情報通信学会

雑誌

電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス

巻号頁・発行日

vol.95, no.387, pp.67-71, 1995-11-24

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rfマグネトロンスパッタ法を用いてPt/SiO_2/Si基板上に作製したLiNbO_3のc軸配向膜の焦電性および圧電性を評価した。薄膜の焦電係数は71×10^<-6>C/(m^2K)でバルクの値の86%であった。また,弾性表面波伝搬速度は3980m/sであった。さらに,薄膜の分極極性の制御を目指して,製膜中の基板にバイアス電圧を加えるバイアススパッタを試み,焦電係数の測定から薄膜の分極反転が起こることが見出され,この結果から,薄膜の分極の制御の一方法としての有効性が確認された。

著者

安田 智 札谷 正美 中野 真治

出版者

一般社団法人電子情報通信学会

雑誌

電子情報通信学会技術研究報告. R, 信頼性 (ISSN:09135685)

巻号頁・発行日

vol.99, no.454, pp.19-24, 1999-11-19

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バイポーラTrのエミッタ・ベース逆バイアスストレスでのhFE劣化におけるコレクタ状態の影響について検討し、以下のことが明らかになった。 1.ベース拡散層が浅い又は、ベース拡散層の濃度が薄い場合、コレクタ接地状態において、エミッタ・コレクタ間のパンチスルー電流により、コレクタオープン状態よりも初期耐圧が低下する。 2.コレクタ接地状態では、エミッタ・コレクタ間のパンチスルー電流が起因し、コレクタオープン状態よりもhFE劣化が大きくなることがある。 3.コレクタ接地状態でのエミッタ・コレクタ間のパンチスルー電流がhFE劣化に与える影響は、エミッタ・ベース拡散層の深さに依存し、浅くなるほど影響が大きい。

著者

江口 剛治 桜井 弘美 原田 曠嗣 柏木 忠

出版者

The Vacuum Society of Japan

雑誌

真空 (ISSN:05598516)

巻号頁・発行日

vol.27, no.10, pp.759-767, 1984

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Silicon oxide films have been formed by a RF bias sputter-deposition system using a quartz target in Ar or Ar/O<SUB>2</SUB> sputtering gas. Substrate bias voltage <I>V</I><SUB>b</SUB> was varied from 0 to-200 V, at the total power of 1.9 W/cm<SUP>2</SUP>.<BR>In order to evaluate the planarization effect, the step coverage of the film on AlSi patterns was examined by SEM and compared with the computer simulated profiles using the Lehmann's method, and a good agreement was obtained. Further, we have applied this planarization technology to a 6-level metallization and realized the good step coverage.<BR>The properties of the silicon-oxide films were also studied. In the case of the Ar gas sputtering, the leakage current and the compressive stress in the film increase with increasing <I>V</I><SUB>b</SUB>. It is found that the Ar/O<SUB>2</SUB> gas sputtering improves the film properties of both the inner stress and leakage current. Auger analysis indicates that the films deposited in Ar/O<SUB>2</SUB> gas have O/Si ratio of about 2, but O/Si ratio of the films deposited in Ar gas is less than 2. From these data, the improvement of the properties of the films can be explained as following; oxygen in Si-O network in the films is removed by Ar ion bombardment during bias sputtering, and damaged bond is compensated by oxygen addition.

著者

荒川 富行 松本 良一 北 明夫

出版者

一般社団法人電子情報通信学会

雑誌

電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス

巻号頁・発行日

vol.95, no.66, pp.77-82, 1995-05-24

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酸窒化膜中の窒素原子分布が信頼性に与える影響について,正及び負のバイアスストレスに対して調べた.その結果次のことが分かった.正ゲートバイアスストレスに対し,酸窒化膜/Si界面の窒素原子濃度が高いほど(2.1%),電荷トラップの生成及び界面準位密度の増加を低減することができ,Q_<bd>も大きくすることができる.一方,負ゲートバイアスストレスに対しては,酸窒化膜/Si界面への窒素原子の導入は,電荷トラップの低減には有効であるが,Q_<bd>の増加及び界面準位密度増加の抑制に対しては効果は少ない.また,正負いずれのバイアスストレスの場合も,酸窒化膜表面付近の窒素原子濃度が高いとき(1%以上),酸窒化膜/Si界面への窒素原子導入の効果は低下する.

著者

Bush Jerre James Robert 黒崎 敬治

出版者

上武大学経営情報学部

雑誌

上武大学経営情報学部紀要 (ISSN:09155929)

巻号頁・発行日

no.28, pp.103-116, 2005-12

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The English Center of Jobu University administered a sample of the TOEIC Bridge test to first year students with a view to encouraging students to use the TOEIC study software that is available for student use, and to compare its performance as a placement instrument with the in-house placement test. A correlation study found a clear but not strong relationship between the two instruments. This paper also discusses the rationale for promoting business English in the curriculum at Jobu University.

著者

齋藤 和史 渡辺 康治 古谷 健悟 佐久間 洋志 石井 清

出版者

一般社団法人電子情報通信学会

雑誌

電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集

巻号頁・発行日

vol.2005, no.2, pp."S-3"-"S-4", 2005-09-07

著者

尾形 真史 依田 幸英 國分 泰雄

出版者

一般社団法人電子情報通信学会

雑誌

電子情報通信学会技術研究報告. OPE, 光エレクトロニクス (ISSN:09135685)

巻号頁・発行日

vol.104, no.28, pp.11-16, 2004-04-16

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本研究室では,超高屈折率差光導波路(HIC)を用いたマイクロリング共振器の高密度集積化ための製作技術として,バイアススパッタ成膜を利用した平坦化埋め込み技術を昨年度に開発していた.しかし,この方法ではコアをSiO_2などで完全に埋め込んでしまうため,コアとクラッドの屈折率差が小さくなり,マイクロリング共振器の放射損失が大きくなる問題があった.そこで本研究では,空気(真空)クラッド埋め込み構造を提案し,RFスパッタ成膜を用いてこの構造を簡単に実現するプロセスを開発した.この技術を用いて側方に空気クラッドを埋め込んだ積層マイクロリング共振器を製作したところ,リング半径5μmの素子から明瞭な共振スペクトルを観測し,FSR=31nmを実現した.また,従来のSiO_2で埋め込んだ構造と本研究の空気(真空)クラッドを側方に設けた埋め込み構造の両方を用いて,同じリング半径のマイクロリング共振器フィルタを製作して特性を比較したところ,本研究の素子は従来型に比べて狭帯域でスルーポート特性の阻止量も大きい良好な特性が得られた.この特性から共振器内損失を見積もったところ,本研究の素子では損失が10分の1に低減されたことが確認できた.

著者

近藤 哲 二村 雄次 早川 直和 神谷 順一 梛野 正人 金井 道夫 上坂 克彦 湯浅 典博 佐野 力

出版者

一般社団法人日本外科学会

雑誌

日本外科学会雑誌 (ISSN:03014894)

巻号頁・発行日

vol.99, no.10, pp.728-732, 1998-10-01

被引用文献数

4

著者

川上 彰二郎 花泉 修 佐藤 尚 大寺 康夫 川嶋 貴之

出版者

一般社団法人電子情報通信学会

雑誌

電子情報通信学会論文誌. C-I, エレクトロニクス, I-光・波動 (ISSN:09151893)

巻号頁・発行日

vol.80, no.6, pp.296-297, 1997-06-25

被引用文献数

20

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2種類の透明媒質からなるサブミクロン周期3次元構造を初めて作製し, 光学的に観察した結果について報告する. 材料系はSi(n=3.26) とSiO_2(n=1.46) であり, バイアススパッタリング法によって凹凸パターンを保存しながら積層することができた. 3次元周期構造部分のパスバンドとストップバンドが1次元のみの周期構造部分に対して大きく変化している様子が確認された.

著者

Shojiro Kuwase

出版者

Honoré Champion

巻号頁・発行日

2003

著者

田近 栄治 林 文子

出版者

学術雑誌目次速報データベース由来

雑誌

經濟研究 (ISSN:00229733)

巻号頁・発行日

vol.47, no.3, pp.217-228,286, 1996

被引用文献数

1

著者

伊藤 誠

出版者

日本信頼性学会

雑誌

日本信頼性学会誌 : 信頼性 (ISSN:09192697)

巻号頁・発行日

vol.25, no.4, pp.354-360, 2003-06-25

被引用文献数

4 1

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自動化は作業効率や安全の向上に貢献しうる反面,利用者がシステムに頼りすぎるとかえって安全性が損なわれうるため,過信の防止が重要な課題である.しかし,過信を防ぐための方法は確立しておらず,概念の整理も十分でない.本校では,過信を分類することによって,過信が単なる慢心や油断だけではなく,誰にでも起きうるものでもあることを指摘する.さらに,自動化システムの動作限界を利用者に正しく理解させることの重要性を示す.

出版者

西洋中世学会

雑誌

西洋中世研究

巻号頁・発行日

no.1, pp.3-86, 2009